NSR觀點|三維拓撲材料的開發:兩步法計算篩選策略
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《國家科學評論》(National Science Review,NSR) 最近發表了由中科院金屬研究所的陳星秋研究員撰寫的Perspective“Boosting the discovery of 3D topological materials: mixing chemistry with physics via a two-step computational screening strategy”
(https://doi.org/10.1093/nsr/nwx053),介紹了一種融合化學和物理學的兩步法計算篩選拓撲材料的策略。
引言
晶格固體拓撲材料包括:拓撲絕緣體(TIs)、拓撲晶體絕緣體(TCIs)、拓撲狄拉克半金屬(DSMs)、拓撲外爾半金屬(WSMs)、拓撲狄拉克或外爾節線半金屬(NLSMs)等等。它們都具有受拓撲保護的重要表面態等特徵。因為拓撲材料在自旋電子學、量子電腦以及新物理等領域的應用前景巨大,
目前報導的三維拓撲材料,一般具有兩個重要的共性特徵:一是電子軌道需全部填滿電子;二是需要發生所謂的能帶反轉。將這兩個特徵結合起來,就是一種計算材料科學中高通量計算篩選拓撲材料的方法。
圖文介紹
圖1 一種兩步法計算篩選策略示意圖
(a)根據元素週期表中元素的電負性和對帶反轉的分析,軌道全部填滿電子示意圖;
(b)結合拓撲狀態,軌道全部填滿電子示意圖;
(c)利用電負性第一步計算篩選出來的TI(Bi2Se3族)和DSM(Na3Bi族)示意圖。
小結
在大資料、材料資訊以及材料基因組計畫的大框架下,
文章資訊:
Xing-Qiu Chen
Boosting the discovery of 3D topological materials: mixing chemistry with physics via a two-step computational screening strategy.Natl Sci Rev (2017). DOI: 10.1093/nsr/nwx053
https://doi.org/10.1093/nsr/nwx053